专利名称：一种氯硅烷残液生产HCl气体的装置专利类型：实用新型专利
发明人：罗平,陈樑,宋东明,黄兵,沈宗喜,李银光,宋良杰,张雯
雯,马启坤,徐灵通,章江洪,丁炳恒,梁景坤,郑慧文,赵义,董森林,王光跃,和雪飙,梁永坤,邓亮
申请号：CN201520573436.X申请日：20150803公开号：CN204981130U公开日：20160120
摘要：本实用新型公开一种氯硅烷残液生产HCl气体的装置，属于多晶硅行业氯硅烷残液资源化领域。所述装置包括氯硅烷残液储罐、搅拌反应釜、吸收塔、过滤机、浓盐酸储槽、洗涤液中间槽、盐酸解析塔、稀盐酸储槽，吸收剂配制槽、换热器；残液储罐与搅拌反应釜连通，搅拌反应釜与吸收塔通过两条管路连通，搅拌反应釜通过泵与过滤机连通，过滤机与浓盐酸储槽连通，过滤机与洗涤液储槽连通；洗涤液储槽通过泵与吸收塔连通，浓盐酸储槽通过泵与盐酸解析塔连通，盐酸解析塔与稀盐酸储槽连通，浓盐酸储槽和稀盐酸储槽通过泵与吸收剂配制槽连通，吸收剂配制槽通过泵与换热器连通，换热器与吸收塔连通。本实用新型所述装置减轻后续污水处理压力，降低工厂环保成本。
申请人：昆明冶研新材料股份有限公司,昆明理工大学
地址：655000 云南省曲靖市经济技术开发区三江大道9号
国籍：CN
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